Бельгийский центр исследований Imec и нидерландская компания ASML подписали меморандум о взаимопонимании для поддержки исследований в области полупроводников и устойчивых инноваций в Европе. Подписание запускает вторую фазу совместной работы этих организаций по разработке оборудования и техпроцессов выпуска чипов с нормами менее 10 нм — до нанометра и менее, что найдёт применение на всех передовых заводах мира.
Так или иначе Imec и ASML участвуют в совместных полупроводниковых проектах свыше 40 лет. В 2018 году они договорились сделать литографические сканеры ещё лучше, чтобы позволить массово выпускать чипы с нормами менее 10 нм. Для этого ASML поставила для экспериментальной линии Imec самый передовой на тот момент сканер NXE:3400B со значением числовой апертуры (NA) 0,33 и запланировала поставку ещё более совершенного сканера EXE:5000 с NA 0,55.
На опытной линии Imec и ASML отрабатывали тонкости производства чипов и работали над усовершенствованием сканеров и оборудования для тестирования, а также испытывали различные составы фоторезиста, методы изготовления фотошаблонов и проводили другие исследования, которые помогли бы в освоении всё более тонких техпроцессов.
Новый договор позволит ещё дальше пойти по этому пути. Теперь ASML отправит для установки на опытную линию Imec ещё более новый сканер — EXE:5200 со значением числовой апертуры 0,55. Кроме этого оборудования в Imec будут отправлены последние модели NXE:3800 с 0,33 NA EUV, иммерсионный сканер DUV (TWINSCAN NXT:2100i), станция оптической метрологии Yieldstar и многолучевой HMI.