Несмотря на отсутствие доступа к оборудованию для выпуска чипов с литографией в экстремальном ультрафиолете (EUV) из-за санкций, китайская компания SMIC продолжает разработку 5-нм и 3-нм техпроцессов производства чипов. Ранее SMIC удалось наладить серийное производство 7-нм микросхем, опираясь исключительно на литографию в глубоком ультрафиолете (DUV), что само по себе не является невозможным — техпроцесс TSMC N7P также не использует EUV.

Источник изображения: SMIC

В отчёте Nikkei утверждается, что сразу после запуска 7-нм техпроцесса 2-го поколения, SMIC создала исследовательскую группу для работы над 5-нм и 3-нм техпроцессами. Команду возглавляет ранее работавший в TSMC и Samsung содиректор SMIC Лян Монг-Сонг (Liang Mong-Song). «Нет более умного учёного или инженера, чем этот парень, — так охарактеризовал его Дик Терстон (Dick Thurston), бывший главный юрисконсульт TSMC. — Он действительно один из самых блестящих умов, которых я видел в области полупроводников».

SMIC прошла долгий путь от небольшой полупроводниковой фабрики до пятого по величине контрактного производителя микросхем в мире. На фоне растущей напряжённости между США и Китаем компания была включена в санкционный список Министерства торговли США и потеряла доступ к передовым инструментам для обработки кремниевых пластин, что серьёзно замедлило её развитие и внедрение новых технологических процессов.

На данный момент литографические машины ASML Twinscan NXT:2000i являются лучшими инструментами, которыми располагает SMIC — они могут производить травление с разрешением до 38 нм. Этот уровень точности обеспечивает экспонирование с шагом 38 нм с использованием двойной фотомаски, чего достаточно для производства чипов класса 7 нм. Согласно исследованиям ASML и IMEC, при 5 нм шаг металла уменьшается до 30-32 нм, а при 3 нм — до 21-24 нм, что уже требует применения EUV.

Источник изображения: ASML

Но использование инструментов литографии со сверхвысоким разрешением (13 нм для EUV с низкой числовой апертурой) — не единственный путь к достижению сверхмалых размеров транзисторов. Другой вариант предусматривает нанесение нескольких последовательных масок, но это сложный процесс, который увеличивает продолжительность производственного цикла, снижает процент выхода годных изделий, увеличивает износ оборудования и повышает затраты. Однако без доступа к EUV-литографии у SMIC просто нет другого выбора, кроме как использовать тройное, четверное или даже пятикратное паттернирование.

Терстон считает, что под руководством Лян Монг-Сонга SMIC сможет производить (если уже не производит) 5-нм чипы в больших количествах без использования инструментов EUV. Однако сегодняшний отчёт Nikkei впервые сообщает о возможной способности SMIC разработать в обозримом будущем 3-нм производственный процесс на оборудовании класса DUV.

По последним данным, компания Samsung столкнулась с трудностями при организации производства чипов в соответствии с передовым 3-нм технологическим процессом. Причина не в отсутствии технологических возможностей, но, как оказалось, в нехватке квалифицированных специалистов для ведения разработок. В результате компании приходится сворачивать старые производства для использования человеческих ресурсов на новых.

Источник изображения: Samsung

Как сообщает Sammobile со ссылкой на южнокорейские СМИ, компания уже перевела часть сотрудников, задействованных в выпуске чипов в соответствии со «зрелыми» техпроцессами, на выпуск 3-нм и даже более передовой продукции. Судя по всему, в компании наблюдается острая нехватка специалистов для поддержки всех техпроцессов, в результате, кадры перенаправляют на современное производство с 130-мм и 65-мм заводских линий.

Конечно, подобная реорганизация довольно дорого обойдётся Samsung. По последним данным, компания более не принимает заказы на чипсеты, основанные на 130-нм и 65-нм технологиях, от корейских малых и средних разработчиков чипов.

Хорошей новостью для Samsung является то, что компания — не единственный из производителей полупроводников, столкнувшихся с подобной проблемой. Известно, что нанять больше квалифицированных сотрудников стремятся полупроводниковые компании из Китая, США и с Тайваня.

TSMC довольно долго осваивала 3-нм производство, не исключено, что именно по причине нехватки кадров. Samsung начала поставки 3-нм чипов в прошлом году, но первая партия оказалась очень небольшого объёма. Первые 3-нм чипы Samsung поставила китайской компании, связанной с майнингом криптовалют.

Известно, что новейший флагман компании Galaxy S23 использует только 4-нм чипсет Snapdragon 8 Gen 2, оптимизированный для Galaxy, причём выпускает его тайваньский производитель TSMC.