В этом году у руля крупнейшего в мире поставщика литографических сканеров — нидерландской компании ASML, стал Кристоф Фуке (Christophe Fouquet), и свои взгляды на текущую ситуацию с ограничением экспорта в Китай передового оборудования для выпуска чипов он выражает довольно открыто. По его мнению, в американских экспортных ограничениях становится всё больше экономических мотивов, нежели защиты нацбезопасности.

Забота о национальной безопасности при этом постепенно уходит на второй план, как дал понять генеральный директор ASML во время своего выступления на технологической конференции Citi в Нью-Йорке. По его словам, приводимым агентством Reuters, принимаемые США меры будут встречать всё больше сопротивления: «Считаю, что становится всё сложнее связать эти действия с вопросами национальной безопасности». Скорее всего, давление (на партнёров США) в сфере введения новых ограничений против Китая будет усиливаться, как считает Фуке, но оно будет натыкаться на растущее сопротивление. Глава ASML надеется, что будет достигнут некоторый баланс интересов, поскольку «бизнес стремится к большей ясности и большей стабильности».

Для Нидерландов бизнес ASML имеет особое значение, поскольку компания является одной из крупнейших в технологическом секторе всей Европы. Премьер-министр страны Дик Схоф (Dick Schoof) на прошлой неделе подчеркнул важность защиты экономических интересов ASML. Компания сейчас получает почти половину своей выручки в Китае, и новые запреты США на поставку в этот регион оборудования её производства способны чувствительно ударить по бизнесу.

Нидерландские власти планируют ограничить деятельность ASML по ремонту и обслуживанию оборудования для полупроводникового производства в Китае, что нанесёт очередной болезненный удар по способности КНР развивать индустрию полупроводников мирового класса.

Источник изображений: asml.com

Как ожидается, правительство Нидерландов не станет продлевать некоторые лицензии ASML на обслуживание оборудования в Китае и поставку запчастей — срок действия разрешений истекает в конце 2024 года, пишет Bloomberg со ссылкой на собственные источники. Решение коснётся машин, работающих с глубоким ультрафиолетом (DUV). Самое передовое в отрасли оборудование нидерландской компании продаётся с соглашениями о техническом обслуживании, которое необходимо для поддержания его работы. Отзыв такой поддержки приведёт к тому, что уже в следующем году часть этих машин выйдет из строя.

Решение нидерландских властей было принято под давлением со стороны США. Вашингтон поднял вопрос о возможности введения определённых односторонних мер в отношении стран-партнёров, включая правило прямых иностранных поставок, если эти союзники не согласятся привести свои нормы экспортного контроля в соответствие с американскими стандартами, сообщили Bloomberg в Белом доме. Правило FDPR (Foreign Direct Product Rule) позволяет американским чиновникам контролировать потоки иностранных товаров, если в них используется хотя бы минимальный набор американских технологий. Крупнейшими игроками в производстве полупроводников, помимо США, являются Нидерланды, Япония и Южная Корея. Бывший премьер-министр Нидерландов Марк Рютте (Mark Rutte) находил возможности сопротивляться давлению со стороны США, а его преемник, бывший глава разведки Дик Схооф (Dick Schoof) демонстрирует более осторожный подход в отношениях с Китаем.

Китай же пока вынужден пользоваться DUV-оборудованием ASML, поскольку не смог самостоятельно разработать его аналогов. Более прогрессивные EUV-сканеры на сверхжёстком ультрафиолетовом излучении в Китай не поставлялись никогда. Они используются, в частности, для выпуска передовых чипов Apple и Nvidia. Без оборудования DUV китайскому технологическому лидеру Huawei и его партнёру SMIC будет значительно сложнее развивать собственные мощности, которые, по оценкам экспертов, на два поколения отстают от лидера отрасли TSMC.

Действия нидерландских властей повлияют и на объёмы продаж ASML, около половины которых поступают из Китая. Техобслуживание оборудования является неотъемлемой частью повседневной работы завода по производству микросхем — инженеры ASML и Applied Materials присутствуют на предприятиях крупных клиентов, включая TSMC, где они помогают в решении проблем в реальном времени. Сотрудники ASML присутствуют и на китайских заводах, а вот американским компаниям пришлось отозвать с них своих работников из-за санкций. Не менее важна и возможность поставлять запчасти для оборудования — выход его из строя заставит производителя полупроводников сократить объёмы выпуска.

В декабре прошлого года делегация руководителей Samsung Electronics в Нидерландах договорилась с коллегами из ASML о строительстве исследовательского центра в Южной Корее, а также расписала график закупки передового оборудования на десять лет вперёд. С тех пор в отвечающем за электронные устройства подразделении Samsung сменилось руководство, и оно уже не так оптимистично смотрит на программу закупки сканеров у ASML.

Источник изображения: Samsung Electronics

Как поясняет издание Business Korea, первоначальные договорённости с ASML подразумевали, что Samsung в течение десяти лет закупит не менее трёх литографических сканеров ASML в каждой из линеек Twinscan EXE:5200, EXE:5400 и EXE:5600. Теперь же, как стало известно корейским источникам, Samsung в этом месяце уведомила ASML о намерениях ограничить ассортимент закупаемых литографических систем некоторым количеством Twinscan EXE:5200, и не торопиться с приобретением последующих моделей.

Более того, Samsung приостановила подготовку к строительству исследовательского центра в корейском Хвасоне, который должен был принять всё это оборудование. Официальные представители Samsung Electronics подтвердить информацию не пожелали, отметив, что в планах компании по приобретению оборудования класса High-NA EUV компании ASML ничего не изменилось. «Совместный исследовательский центр двух компаний будет расположен в оптимальном месте», — добавили они.

Неофициальные источники связывают подобные назревающие изменения в курсе Samsung с майским назначением на должность главы подразделения Device Solutions Чон Ён Хёна (Jun Young-hyun), поскольку первоначальные договорённости с ASML были достигнуты ещё его предшественником. Возможно, как только новое руководство подразделения определится с долгосрочными планами, сотрудничество с ASML будет возобновлено на новых условиях, если это потребуется.

Южнокорейская компания Samsung Electronics не только остаётся крупнейшим производителем памяти, но и не оставляет амбиций в сфере контрактного производства логических компонентов. Ради движения в ногу с прогрессом она собирается вслед за Intel получить к концу этого года литографический сканер ASML TwinScan EXE:5000, который позволяет работать с высоким значением числовой апертуры (High-NA).

Источник изображения: ASML

Intel является крупнейшим клиентом ASML на этом направлении и пытается выкупить все доступные для заказа на этот год подобные системы, но намерения Samsung показывают, что при определённой настойчивости корейская компания тоже может получить свою первую литографическую систему класса High-NA EUV к концу текущего года или в первом квартале следующего. Подобное оборудование должно позволить Samsung не только наладить выпуск чипов по технологиям «тоньше» 2 нм, но и делать это с более низкой себестоимостью. Правда, сам литографический сканер такого класса стоит не менее $380 млн, а ещё он занимает больше места, поэтому внедрение такого оборудования потребует не только высоких первоначальных затрат, но и смены подхода к планировке цехов.

Попутно южнокорейские СМИ сообщают, что Samsung призналась в наличии у неё средств инспекции фотомасок японской марки Lasertec, которые адаптированы к технологии High-NA EUV. Если всё пойдёт по плану, Samsung сможет наладить выпуск первых прототипов продукции на оборудовании такого класса к середине следующего года. Впрочем, в массовом производстве технология High-NA EUV будет освоена компанией ближе к 2027 году.

Samsung в сотрудничестве с Synopsys также внедряет иной «рисунок» элементов полупроводниковых чипов, который предполагает переход от прямых линий к кривым. Это позволит создавать более плотные структуры на чипах и продвинуться в освоении более «тонких» техпроцессов. Компания TSMC также рассчитывает получить до конца года от ASML свой первый литографический сканер класса High-NA EUV, но внедрить подобное оборудование в массовом производстве чипов по технологии A14 планирует не ранее 2028 года.

Не только компания Intel активно приобретает у ASML литографические системы с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV). Один из первых сканеров такого класса расположился в лаборатории ASML и Imec в Нидерландах, и недавно последняя смогла изготовить тестовые чипы с рекордно малыми размерами элементов за один проход, доказав эффективность оборудования класса High-NA EUV.

Источник изображения: Imec

Используя литографическую систему Twinscan EXE:5000 и подготовленную для неё партнёрами оснастку с новыми материалами, Imec изготовила несколько тестовых полупроводниковых структур, обладающих рекордно малыми размерами. В частности, образец логического компонента с металлизированными слоями продемонстрировал размеры элементов не более 9,5 нм с шагом между ними 19 нм, а расстояние по вершинам не превысило 30 нм. Специалистам Imec удалось за один проход создать образец чипа со сквозными отверстиями, расположенными на расстоянии 30 нм друг от друга. Массив отверстий получился регулярным, сами они имели однородную форму и размеры. В рамках экспериментов по созданию длинных двумерных элементов удалось выдержать расстояние между ними не более 22 нм.

Были созданы и структуры, повторяющие ячейки памяти. Это особенно важно с учётом интереса к оборудованию класса High-NA EUV со стороны крупных производителей памяти в лице Samsung, SK hynix и Micron. Если Intel до конца этого года получит уже второй литографический сканер с высоким значением числовой апертуры (0,55), то TSMC рассчитывает получить только первый, причём использовать подобное оборудование в массовом производстве она рассчитывает начать не ранее 2028 года, когда освоит техпроцесс A14.

Imec особо подчёркивает, что успех экспериментов с данным типом оборудования ASML открывает дорогу клиентам компании к началу проектирования продукции, при производстве которой оно будет использоваться. Соответственно, поставщики оснастки и расходных материалов тоже учтут данный опыт в расширении ассортимента своей продукции. Переход на новый класс литографического оборудования сократит количество проходов при экспозиции фотомасок, повысив производительность линий по выпуску чипов. Проблемой пока остаётся только высокая стоимость таких сканеров, поскольку один стоит около 350 млн евро.

Нидерландская ASML, которая выпускает оборудование для производства чипов, может быть освобождена от новых ограничений на экспорт своей продукции в Китай, сообщила сегодня Reuters. В результате акции компании подорожали на 7%.

Источник изображения: asml.com

США рассматривают возможность ужесточить санкции в отношении Китая и других стран, позволив своим регуляторам контролировать поставки оборудования, в котором используются американские технологии. Но союзники США, которые поставляют оборудование для производства микросхем, включая Нидерланды, Южную Корею и Японию, будут освобождены от необходимости следовать новым нормам. Инициатива коснётся таких стран как Израиль, Тайвань, Сингапур и Малайзия — на Тайване, например, расположены штаб-квартира и заводы TSMC, крупнейшего в мире полупроводникового подрядчика.

Проект закона о прямых зарубежных поставках гласит, что любая компания, которая производит полупроводниковую продукцию и хотя бы отчасти использует при этом американские технологии, не сможет экспортировать эту продукцию в Китай. Это правило будет распространяться и на иностранные компании, поскольку они часто задействуют американские решения.

Нидерландская ASML является важнейшим игроком в области производства проводников, поскольку её оборудование используется для выпуска самых передовых в мире микросхем — её акции после сообщения Reuters подскочили на 7 %. На те же 7 % подорожали ценные бумаги Tokyo Electron — японского производителя полупроводникового оборудования. Подорожали также акции корейских SK hynix и Samsung, правда, рост последней может быть также связан с опубликованным сегодня положительным финансовым отчётом.

Производители полупроводниковых компонентов используют так называемую EUV-литографию лишь на определённых этапах технологического процесса, их количество от поколения к поколению возрастает. Так, если Samsung при производстве 3-нм чипов ограничивалась 20 слоями с EUV, то после перехода на 2-нм техпроцесс их количество вырастет на 30 %.

Источник изображения: Samsung Electronics

Об этом со ссылкой на собственные источники на прошлой неделе сообщило южнокорейское издание The Elec. Другими словами, в рамках 2-нм технологии Samsung будет применять литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением для обработки примерно 27 слоёв. Для сравнения, TSMC при производстве чипов по техпроцессу N3 обрабатывает с помощью EUV-литографии 25 слоёв. По данным корейских источников, после перехода в 2027 году на выпуск 1,4-нм чипов компания Samsung рассчитывает обрабатывать по методу EUV более 30 слоёв.

Соответственно, все эти планы подразумевают, что Samsung потребуется больше литографических сканеров, а также сопутствующей оснастки, рассчитанной на работу с EUV-литографией. Крупнейший поставщик такого оборудования, нидерландская ASML, намеревается за ближайшие два года отгрузить клиентам около 70 соответствующих сканеров, каждый из которых стоит более $100 млн. Потребность производителей чипов в капитальных затратах вырастет после перехода на оборудование с высоким значением числовой апертуры (High-NA), поскольку соответствующий сканер будет обходиться в $300 млн. Наиболее активным покупателем этих сканеров станет Intel, а вот TSMC не торопится внедрять данную технологию именно из экономических соображений.

Нидерландская компания ASML является крупнейшим в мире поставщиком литографических сканеров, без которых в современных условиях невозможен выпуск передовых полупроводниковых компонентов. По итогам второго квартала ей удалось увеличить портфель заказов на 24 % до 5,6 млрд евро, а выручка и чистая прибыль компании превзошли ожидания аналитиков.

Источник изображения: ASML

Как водится, динамику основных финансовых показателей ASML в прошлом квартале аналитики старались обосновать ростом спроса на оборудование для производства чипов, используемых в составе систем искусственного интеллекта. Технически, выручка ASML по итогам второго квартала сократилась на 9,5 % в годовом сравнении до 6,24 млрд евро, но эта сумма всё равно оказалась выше ожидаемых рынком 6,03 млрд евро. Чистая прибыль компании также сократилась на 18,7 % в годовом сравнении до 1,58 млрд евро, но оказалась выше заложенных в прогноз инвесторов 1,43 млрд евро.

Не менее важным для оценки динамики развития бизнеса компании оказался параметр общей стоимости оборудования, которое ASML собирается в дальнейшем поставить своим клиентам. Сумма заказов выросла по итогам второго квартала на 24 % год к году до 5,6 млрд евро, а последовательно она увеличилась на все 54 %. Ранее представители ASML называли 2024 год «переходным периодом», который будет характеризоваться последствиями затоваривания рынка, вызванного пандемией. Прогноз по выручке на текущий год руководство ASML при публикации результатов второго квартала оставило без изменений (на уровне предыдущего года), в текущем квартале компания рассчитывает выручить от 6,7 до 7,3 млрд евро. Это меньше, чем те 7,5 млрд евро, на которые рассчитывали аналитики.

Новый генеральный директор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) заявил: «Хотя на рынке присутствуют факторы неопределённости, в основном вызванные состоянием макроэкономики, мы всё равно рассчитываем на восстановление спроса во второй половине года». По мнению руководителя компании, в следующем году полупроводниковая отрасль вступит в цикл восстановления и подъёма. Соответственно, ASML придётся подготовиться к строительству нескольких новых предприятий по выпуску чипов по всей планете, которые возводятся несколькими клиентами компании. Все эти клиенты будут получать от ASML соответствующие технологические системы. Кроме того, как отметил глава ASML, сейчас рост спроса в полупроводниковой отрасли обусловлен преимущественно сегментом систем искусственного интеллекта. Прочие сегменты рынка пока лишь следуют за ним с точки зрения скорости восстановления спроса. По крайней мере, в актуальном портфеле заказов ASML примерно половина суммы приходится на стоимость оборудования, пригодного для выпуска чипов с использованием передовой EUV-литографии.

Ранее ASML предупреждала, что введённые прошлой осенью властями США санкции против Китая лишат её от 10 до 15 % всей выручки. В контексте вероятного усугубления данных санкций в этом году соответствующих комментариев от руководства ASML пока не последовало. Зато фондовый рынок на угрозу новых санкций отреагировал молниеносно — курс акций ASML в Амстердаме упал на 7,7 % до 903 евро за штуку, максимально с октября 2022 года.

Для ASML китайский рынок продолжает оставаться одним из важнейших, поскольку во втором квартале он обеспечил её почти половиной (49 %) всей выручки (€2,3 млрд), а последовательный рост выручки компании в Китае достиг 21 %. Кстати, 49 % выручки ASML китайское направление формирует уже второй квартал подряд, а до уровня в 46 % оно вырастало в третьем квартале прошлого года, когда стало известно о готовящихся очередных санкциях против Китая. Под давлением США власти Нидерландов запретили с начала этого года компании ASML поставлять в Китай ряд литографических сканеров класса DUV, с помощью которых, как считают американские чиновники, китайские производители сохраняют возможность выпускать достаточно продвинутые по меркам местной отрасли чипы. Обслуживание купленного ранее китайскими клиентами оборудования ASML продолжает, и это вызывает отдельное недовольство в США. Самые передовые литографические системы класса EUV компания ASML не может продавать в Китай ещё с 2019 года, когда власти Нидерландов превентивно ввели соответствующие ограничения.

В Нидерландах осуществляет свою деятельность крупнейший в мире поставщик литографических сканеров, необходимых для выпуска полупроводниковой продукции — компания ASML. Она полагается на мигрантов не только в своей производственной деятельности, но и в сфере подготовки будущих кадров, и противостояние США и Китая начало создавать проблемы в этой области.

Источник изображения: ASML

В прошлом году, как отмечает Bloomberg со ссылкой на главу Технологического университета в Эйндховене Роберта Яна Смитса (Robert-Jan Smits), посол США в Нидерландах обратился к руководству вуза с требованием разъяснить, почему среди студентов так много выходцев из Китая. Это учебное заведение расположено в пяти минутах от штаб-квартиры ASML, оно тесно сотрудничает с этой компанией и располагает собственной лабораторией, оснащённой новейшим литографическим оборудованием для обучения студентов. Более четверти учащихся вуза являются иностранцами, но определить долю китайцев среди них руководство университета затрудняется.

Как справедливо отметил Смитс, власти США в период с 2021 года непрерывно увеличивали количество студенческих виз, выдаваемых гражданам Китая для обучения в американских вузах. Он не отрицает, что Нидерланды вынуждены защищать свои интересы в сфере национальной безопасности, но призывает к более здравому подходу к идентификации рисков. Университет проводит тщательную проверку преподавательского состава на предмет угроз промышленного шпионажа, по требованию властей китайским студентам также запретили проходить стажировку на предприятиях отрасли, которая была предусмотрена программой подготовки и рассчитывалась сроком на один год.

Власти Нидерландов до сих пор обсуждают законопроект, который запретит подготовку китайских студентов на специальностях, имеющих отношение к чувствительным для национальной безопасности сферам деятельности. Новый премьер-министр страны Дик Схоф (Dick Schoof), по всей видимости, разделяет некоторые опасения в отношении Китая, поэтому запреты наверняка будут утверждены правительством. При этом для самой ASML китайский рынок остаётся важнейшим с точки зрения сбыта продукции, ибо в первом квартале в КНР компания выручила в восемь раз больше средств, чем в США, и больше, чем в регионе EMEA и Южной Корее вместе взятых.

В этом месяце компании TSMC и ASML в числе первых откроют сезон квартальных отчётов, и инвесторы уже с воодушевлением ждут выхода статистики, рассчитывая на хороший рост финансовых показателей обоих эмитентов. Курс акций ASML на фоне таких настроений в начале недели впервые в истории компании на время превысил отметку в 1000 евро за штуку.

Источник изображения: ASML

Нидерландская компания ASML остаётся крупнейшим поставщиком литографических сканеров в мире, они необходимы для производства полупроводниковой продукции, поэтому бум систем искусственного интеллекта закономерно отобразился на росте котировок акций этого эмитента. Позже курс акций ASML опустился до отметки 996,90 евро за штуку, поэтому говорить о закреплении на психологически важной высоте пока не приходится. Всего с начала этого года акции компании выросли в цене на 46 %. Уже сейчас ASML входит в тройку крупнейших по величине капитализации компаний в Европе и является крупнейшим в регионе поставщиком оборудования для выпуска чипов.

Такой динамике накануне способствовал и рост оптимизма инвесторов в отношении компании TSMC, которая, будучи крупнейшим контрактным производителем чипов, является одним из главных клиентов ASML. На апрельской квартальной конференции руководство TSMC признало, что компания собирается в текущем году понести капитальные затраты в размере от $28 до $32 млрд. Квартальный отчёт TSMC будет опубликован 18 июля, статистика за июнь выйдет ещё на этой неделе. ASML успеет отчитаться о результатах квартала 17 июля, так что основные наблюдаемые на рынке тенденции будут выявлены синхронно по результатам публикации квартальной отчётности уже на следующей неделе.

Как поясняет публикация на страницах тайваньского ресурса Commercial Times, прогресс TSMC в расширении объёмов производства чипов по передовым техпроцессам и освоении их новых этапов будет во многом зависеть от способности ASML поставлять новое оборудование. Последняя из компаний собирается снабдить TSMC более чем 60 системами для работы с EUV-литографией, получив от неё за два года не менее $12,3 млрд.

Источник изображения: ASML

Современное литографическое оборудование потребуется TSMC не только для экспансии производства 3-нм продукции, но и для подготовки к началу выпуска 2-нм изделий. Как известно, TSMC неоднократно подчёркивала, что при массовом производстве 2-нм чипов обойдётся без использования более дорогих литографических сканеров High-NA EUV с высоким значением числовой апертуры. При этом агентство Reuters отмечало, что до конца года TSMC всё-таки получит от ASML соответствующее оборудование для использования в исследовательских целях.

Потребность TSMC в литографических сканерах класса EUV источники оценивают в 30 систем в текущем году и 35 в следующем. Сейчас спрос на подобное оборудование значительно превышает предложение, поэтому заказываемый литографический сканер приходится ждать от 16 до 20 месяцев. В следующем году ASML сможет увеличить объёмы выпуска литографических сканеров более чем на 30 %, а потому основная часть поставок придётся на 2025 год. Если в этом году компания рассчитывает отгрузить 53 сканера, то в следующем она собирается выпустить не менее 72 штук. При этом предельная производительность компании по данному типу систем в следующем году достигнет 90 штук.

Кроме того, за следующий год ASML собирается выпустить не менее 600 сканеров для работы с глубокой ультрафиолетовой литографией (DUV), а также около 20 новейших систем класса High-NA EUV. По данным тайваньских источников, в следующем году такие сканеры всё ещё не будут востребованы клиентами для производства чипов в массовых количествах, и будут использоваться преимущественно для экспериментов. Напомним, что Intel является основным претендентом на скорейшее внедрение оборудования High-NA EUV при производстве чипов с использованием технологии Intel 14A, хотя экспериментировать с ним будет ещё в рамках техпроцесса Intel 18A.

TSMC собирается запустить массовое производство 3-нм чипов на предприятии в Тайнане в третьем квартале текущего года. Выпуск 2-нм продукции планируется освоить сразу на трёх тайваньских предприятиях компании в 2025 году. В третьем квартале TSMC также рассчитывает получить от властей США субсидии, которые будут использованы для закупки оборудования для первого предприятия компании в штате Аризона, а также для строительства второго. Поставщики фотомасок и вспомогательного оборудования рассчитывают хорошо заработать на планах TSMC по экспансии производства с использованием передовых техпроцессов.

Ещё в мае являющаяся лидером в сегменте литографических сканеров компания ASML рассказала о перспективах появления к началу следующего десятилетия систем, позволяющих работать со сверхвысоким значением числовой апертуры — 0,75 (Hyper-NA EUV). Представители Imec утверждают, что и в следующем десятилетии литография не уйдёт от использования лазеров и кремния.

Источник изображения: ASML

Соответствующими соображениями в интервью EE Times поделился директор Imec по передовым программам экспозиции Курт Ронзе (Kurt Ronse). Эта бельгийская компания более 30 лет помогает ASML осваивать новые технологии при разработке литографических сканеров, поэтому говорить о перспективе их дальнейшего развития он имеет полное право. Уже сейчас, готовясь перейти к литографическим сканерам с высоким (0,55) значением числовой апертуры (High-NA EUV), производитель оборудования сталкивается с некоторыми проблемами.

В частности, при таком значении числовой апертуры уже начинает проявлять себя поляризация света, снижая контрастность проецируемого на кремниевую пластину изображения. Для борьбы с нею можно использовать поляризационные фильтры, но они повышают энергопотребление оборудования и себестоимость продукции. При переходе к Hyper-NA EUV, как поясняет представитель Imec, проблемой станет поиск новых фоторезистивных материалов, поскольку даже при значении числовой апертуры 0,55 толщина их слоя уменьшается, а это ухудшает точность последующего химического травления.

По словам Курта Ронзе, TSMC не торопится переходить на High-NA EUV благодаря наличию у компании опыта работы с множественными фотошаблонами. Intel таким опытом в достаточной мере не обладает, а потому предпочитает просто перейти на более дорогое оборудование с более высокой разрешающей способностью. Применение двойного шаблонирования потребовало бы более точного позиционирования фотомасок, компания Intel в этой сфере просто не обладает достаточным опытом. По мнению представителя Imec, компания TSMC решится перейти на использование High-NA EUV ближе к концу текущего десятилетия.

В общем случае, подобное оборудование найдёт своё применение при производстве чипов с использованием литографических норм тоньше 2 нм — вплоть до 7 ангстрем. После этого нужно будет применять литографические сканеры со сверхвысоким значением числовой апертуры (Hyper-NA EUV). Такой переход позволит отказаться от двойного шаблонирования, поскольку последний метод увеличивает затраты на оснастку и удлиняет производственный цикл, повышая себестоимость продукции.

Исследователи рассматривали несколько альтернатив литографическому оборудованию со сверхвысоким значением числовой апертуры, по данным Imec. Одной из них является технология нанопечати транзисторов, но по своей производительности данный метод сильно уступает даже сканеру High-NA EUV. Ещё одной альтернативой считалось использование нескольких направленных потоков электронов для формирования нужного рисунка на кремниевой пластине, но единственный производитель подходящего оборудования разорился.

Применение новых материалов вместо кремния пока тоже затруднено, как поясняет представитель Imec. Существуют материалы с более высокой подвижностью электронов, но их очень сложно нанести на пластину, которая при этом продолжит оставаться кремниевой. Оборудование для нанесения новых материалов будет сочетаться с новыми химикатами, и соответствующие эксперименты уже ведутся в лабораториях, но они пока далеки от массового применения.

Ажиотаж на фондовом рынке вокруг акций Nvidia в разной степени отображается на котировках ценных бумаг её партнёров, и если выпускающая для неё чипы TSMC наращивает капитализацию умеренными темпами, то снабжающая последнюю оборудованием ASML недавно вышла на второе место среди европейских публичных компаний, обойдя производителя роскошных аксессуаров и предметов одежды LVMH.

Источник изображения: ASML

Подобная динамика за время существования ASML наблюдается впервые, как отмечает Bloomberg, хотя даже при нынешней капитализации в размере €377 млрд компания уступает Novo Nordisk A/S — датскому фармацевтическому гиганту. С другой стороны, конгломерат LVMH, который выпускает аксессуары под марками Louis Vuitton, Christian Dior, Loewe, Fendi, Celine, Kenzo, Berluti, Patou, Loro Piana, Emilio Pucci, Givenchy, Marc Jacobs, Rimowa, Moynat, Hublot, Chaumet, Bulgari и Tiffany & Co, в последнее время жаловался на снижение спроса на предметы роскоши, а потому вполне закономерно уступил ASML в капитализации примерно €641 млн.

Росту курса акций ASML на 8,1 % вчера способствовала новость о том, что компания намерена до конца года наладить поставки новейших литографических систем с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) для нужд всех трёх крупнейших производителей чипов: Intel, TSMC и Samsung. Стоимость каждого сканера такого класса достигает €350 млн, а потому в сочетании с высоким спросом на услуги по производству передовых чипов обеспечивает ASML перспективы стабильного увеличения выручки. Даже если TSMC не начнёт использовать оборудование ASML новейшего поколения в ближайшие два года, ей всё равно потребуется много продукции этого поставщика, поскольку в текущем году тайваньский производитель чипов намерен потратить на передовую литографию более $17 млрд. В эту сумму входят и расходы на строительство новых предприятий, и средства на закупку нового оборудования для них.

Intel ранее объявила о готовности выкупить все доступные для отгрузки в этом году литографические сканеры ASML класса High-NA EUV. В то же время TSMC заявила об отсутствии намерений внедрять такое оборудование в рамках техпроцесса A16. Тем не менее, ASML заявила, что сможет поставить такие системы для нужд TSMC и Samsung до конца года.

Источник изображения: ASML

Агентство Bloomberg сегодня распространило информацию, что финансовый директор ASML Роджер Дассен (Roger Dassen) признался аналитикам в готовности компании снабдить соответствующими литографическими сканерами всех трёх крупнейших клиентов до конца текущего года. Как известно, Intel первую систему с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) для своего исследовательского центра в штате Орегон получила ещё в конце прошлого года. Ещё одна система попала в исследовательский центр, которым ASML руководит в сотрудничестве с Imec, а третью нидерландский производитель собирался использовать для собственных нужд.

TSMC перспективу получения подобного оборудования в текущем году подробно комментировать отказалась, сославшись лишь на глубокое сотрудничество с поставщиками. Руководство тайваньского контрактного производителя чипов в большей степени было обеспокоено высокой стоимостью сканеров класса High-NA EUV, которая может достигать $380 млн за систему. Её технологические возможности компанию TSMC определённо интересуют, как отмечали представители тайваньского гиганта. К концу 2026 года компания рассчитывает освоить технологию A16, но не будет использовать в её рамках оборудование класса High-NA EUV из экономических соображений. Аналитики Jefferies ожидают, что Intel внедрит использование этого оборудования при производстве чипов по технологии A14 в 2028 году.

Опять же, Intel собирается внедрять использование этого оборудования при выпуске чипов по технологии Intel 14A, но на уровне одного или двух слоёв. Эксперименты с использованием такого оборудования Intel может провести в исследовательском центре в Орегоне ещё в рамках техпроцесса Intel 18A, но подобная комбинация не найдёт применения при серийном производстве чипов в следующем году.

По прогнозам Jefferies, в каждом из оставшихся трёх кварталов этого года ASML сможет выручить по 5,7 млрд евро в среднем, что позволит по итогам 2024 года в целом получить 40 млрд евро выручки. «Тёмной лошадкой» в этой истории остаётся южнокорейская Samsung Electronics, которая не скрывает своих намерений потеснить конкурентов в сфере литографии, но до сих пор не особо обсуждала свои планы по использованию литографического оборудования с высоким значением числовой апертуры.

Нидерландская компания ASML остаётся основным поставщиком литографических сканеров, необходимых для производства полупроводниковых компонентов, недавно она приступила к отгрузке передового оборудования класса High-NA EUV, оно же будет установлено и в открываемой совместно с бельгийской Imec лабораторией для клиентов компании.

Источник изображения: ASML

В нидерландском Велдховене после нескольких лет строительства появится лаборатория ASML, позволяющая производителям полупроводниковых компонентов получить ранний доступ к технологическим возможностям оборудования с высоким значением числовой апертуры (High-NA). Один сканер такого типа стоит до 350 млн евро, поэтому приобрести его в личное пользование ради экспериментов могут лишь немногие компании (Intel пока является единственной с декабря прошлого года), а вот получить доступ к оборудованию в лаборатории ASML значительно проще.

Оборудование с высоким значением числовой апертуры позволяет поднять разрешение литографических сканеров на 60 %, его Intel намеревается внедрить уже при производстве чипов по технологии Intel 14A, а вот TSMC с подобной миграцией спешить не собирается, предпочитая в рамках техпроцесса A16 довольствоваться имеющимися технологическими решениями. ASML на этой неделе подчеркнула, что её клиенты начнут использовать оборудование High-NA EUV в коммерческом производстве чипов в 2025 или 2026 году.