Опубликованные в местных СМИ выдержки из официальных документов подтверждают, что в 2020 году запрет на поставку передового литографического оборудования из Нидерландов в Китай был осуществлён по настоянию министерства обороны этой страны, которое, в свою очередь, действовало по настоянию властей США. В ближайшее время правительство Нидерландов должно дополнительно ограничить поставки оборудования ASML в Китай.

Источник изображения: ASML

Как поясняет Reuters со ссылкой на собственные источники, экспорт оборудования ASML в Китай должен быть в обозримом будущем дополнительно ограничен, и соответствующие переговоры по линии национальной безопасности сейчас ведутся между Нидерландами и США. Данная новость для фондового рынка затмит влияние публикации финансового отчёта ASML за прошлый квартал, которая ожидается на следующей неделе. Сейчас компания до 15 % всей выручки получает именно на китайском направлении и местный рынок продолжает активно расти.

В начале октября, напомним, власти США ввели собственные дополнительные экспортные ограничения в отношении Китая, и с тех пор уговаривают Нидерланды и Японию присоединиться к ним в той или иной степени. Чиновники в Нидерландах пытаются учитывать экономические интересы национальных поставщиков оборудования, крупнейшим из которых является ASML. Министр торговли страны Лизе Шрайнемахер (Liesje Schreinemacher) с трибуны ВЭФ в Давосе вчера заявила: «Я знаю, что оказывается серьёзное международное давление, но буду бороться за принципы свободной торговли и против протекционизма».

Власти страны сейчас пытаются выработать такие правила, которые не ограничивали бы компании из Нидерландов сильнее, чем американские. Во-вторых, эти ограничения нужно синхронизировать с Японией. В-третьих, нужно убедиться, что новые ограничения не станут потрясением для мирового рынка полупроводниковых компонентов, который и так находится не в лучшем состоянии.

Аналитики ожидают, что в прошлом квартале ASML удалось получить чистую прибыль в размере 1,68 млрд евро и рекордную выручку в сумме 6,37 млрд евро. В ноябре руководство компании подняло свой прогноз по величине ежегодно получаемой выручки на 25 %, к 2030 году компания рассчитывает ежегодно получать не менее 30 млрд евро. Октябрьские санкции США сами по себе способны сократить портфель заказов ASML на 5 %, но если Нидерланды усилят ограничения на своей стороне, то потери могут оказаться больше.

До 2014 года поставки оборудования для DUV-литографии в Китай были ограничены, но потом запрет сняли, и компания ASML с тех пор смогла выручить на этом направлении более 8 млрд евро. Есть вероятность, что подобные ограничения могут вернуться.

Из откровений издания Financieele Dagblad стало известно, что в 2020 году власти Нидерландов прислушались к рекомендации местного министерства обороны воздержаться от поставок в Китай оборудования для работы с EUV-литографией. По словам представителей оборонного ведомства Нидерландов, если бы поставки такого оборудования в Китай не были прекращены, то многократно бы выросли шансы любой из стран НАТО столкнуться с необходимостью защищаться от передового оружия, произведённого вероятным противником. Документ одновременно подчёркивал, что «важнейший стратегический партнёр в сфере безопасности (США) обратился со срочным требованием соответствующего содержания к властям Нидерландов», чтобы предотвратить экспорт EUV-литографии в КНР.

Huawei подала патентную заявку, в которой описан литографический сканер со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV), передаёт UDN. Если компании удастся построить такой сканер и добиться достойной производительности, длительного времени безотказной работы и приемлемого выхода годной продукции, китайские компании получат доступ к технологиям класса менее 7 нм.

Источник изображения: huawei.com

Документы в Национальное управление интеллектуальной собственности Huawei подала в середине ноября, заявка зарегистрирована за номером 202110524685X, сообщает MyDrivers. В патентной заявке описаны ключевые компоненты EUV-сканера, в том числе генератор света с длиной волны 13,5 нм, комплект зеркал и система литографии. К сожалению, данный документ не означает фактической возможности Huawei построить эту сложную машину, включающую в себя множество современных компонентов, способных обеспечивать идеально согласованную работу в течение продолжительного времени. Кроме того, производство придётся обеспечить необходимым сырьём.

EUV-сканер с числовой апертурой 0,33 на сегодня является самым продвинутым оборудованием для производства полупроводников — его пытались построить многие компании, но успеха добилась только нидерландская ASML ценой более чем десяти лет работы и финансовой поддержки Intel, Samsung и TSMC. Используют или только собираются применять это оборудование только пять компаний во всём мире: Intel, Micron, Samsung, SK Hynix и TSMC. Но и они самостоятельно разрабатывали или планируют разрабатывать достаточно сложные технологические процессы, которые позволят использовать возможности EUV-сканера. Китайская SMIC получить такое оборудование не смогла, хотя оно уже было закуплено — иными словами, спрос на него в стране есть, и Huawei, видимо, пытается его удовлетворить.

Huawei, технологический гигант с годовым доходом на уровне $100 млрд, работает над множеством проектов разной направленности: в полупроводниковой отрасли её цели не ограничиваются одним только выпуском чипов — компания явно заинтересована в создании оборудования для производства кремниевых пластин.

В начале декабря руководство Intel заявило, что компания готова к массовому производству компонентов с использованием технологии Intel 4, что в прежней классификации соответствовало 7-нм техпроцессу и подразумевает использование литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). На этой неделе в Ирландии был приведён в работоспособное состояние первый в Европе EUV-сканер, который установлен на предприятии Intel.

Источник изображения: Intel

Процессорный гигант посвятил этому событию лаконичный пресс-релиз, пояснив, что первая EUV-система производства ASML прибыла в Ирландию ранее в этом году, а на уходящей неделе её удалось привести в работоспособное состояние и включить. Впервые на европейском предприятии Intel начал работать литографический сканер, использующий лазер с длиной волны 13,5 нанометра. Это является важным шагом на пути Intel к началу серийного производства продукции по технологии Intel 4. Как известно, по ней будут выпускаться кристаллы центральных процессоров Meteor Lake, содержащие вычислительные ядра.

Вряд ли Ирландия станет единственной площадкой Intel, где будет применяться передовой техпроцесс Intel 4, но в Европе она будет самой продвинутой в масштабах местной полупроводниковой отрасли. Местные специалисты прошли стажировку на передовом предприятии Intel в штате Орегон, а компания ASML предоставила команду из 100 специалистов, которые помогали Intel устанавливать и настраивать первую систему такого типа в Ирландии. Каждый EUV-сканер состоит из 100 тысяч деталей, 3000 кабелей, 40 000 крепёжных элементов и более чем 1,6 км трубопровода. На подготовку к доставке и монтажу первого EUV-сканера в Ирландию ушло около 18 месяцев. Как подчёркивается в пресс-релизе компании, Intel по-прежнему рассчитывает начать выпуск процессоров Meteor Lake в 2023 году.